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憑借其獨特的光學設計技術,新一代PL mapping測試儀, Model Imperia能夠檢測并分類導致產能下降的外延結構缺陷, 同時獲得最先進的光致發光譜作為產品監控。
通過更準確的預測MOCVD的產能和PM安排,獲得顯著的成本降低.結合這兩個后外延。
測試監控功能的合并入單一高產能測試系統,可以最大限度地減少寶貴的工廠空間使用和晶圓取放片時間。
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